خبر جالب دیگر این است که هواوی برنامه خود را برای توسعه نسل جدید تراشه‌های Kirin با لیتوگرافی 3 نانومتری آغاز کرده و پیش‌بینی می‌شود تا اواخر سال جاری میلادی تولید آنها را آغاز کند.
تولید تراشه‌ها در لیتوگرافی کوچک‌تر به شرکت طراح اجازه می‌دهد تعداد ترانزیستور بیشتری را داخل تراشه تعبیه کند که این امر، افزایش قدرت پردازشی دستگاه را در پی دارد. در عین حال، کوچک‌تر شدن اتصالات و ترانزیستورهای داخلی، با کاهش توان مصرفی موجب شارژدهی بیشتر و بهبود طول عمر باتری دستگاه می‌گردد.
با طراحی تراشه‌های 5 نانومتری توسط HiSilicon (از شرکت‌های زیرمجموعه هواوی)، این کمپانی توانست تحسین بسیاری از متخصصان را برانگیزد که نقطه عطف آنها قدرت مثال‌زدنی و تکنیک‌هایی بود که در بخش پردازشگر عصبی (NPU) گوشی‌های هواوی حاصل شد.
حالا خبرهای جدید حکایت از این دارند که هواوی قصد دارد نسل جدید تراشه‌های پردازشی خود را با استفاده از فناوری ساخت 3 نانومتری طراحی کرده و همین امسال نیز نسبت به تولید آنها اقدام کند.
در همین راستا، هواوی چند روز پیش نام تجاری جدیدی را برای برند Kirin که مربوط به چیپست‌های این شرکت است، به ثبت رساند. این رخداد نشان می‌دهد هواوی علی‌رغم محدودیت‌های تجاری، همچنان در حال توسعه صنعت تراشه‌های خود است.
خلاصه مشخصات تراشه پرچمدار فعلی هواوی Kirin 9000
با توجه به این توضیحات، انتظار می‌رود هواوی تولید تراشه‌های 3 نانومتری خود را تا پایان سال شروع کرده و نسل جدید این چیپست‌ها را که به احتمال فراوان Kirin 9010 نام خواهد داشت، در آینده نزدیک در گوشی‌ها و تبلت‌های پرچمدار خود به کار ببرد.
ساخت این تراشه موجب خواهد شد تا هواوی بتواند از رکورد 15.3 میلیارد ترانزیستور موجود در تراشه پرچمدار Kirin 9000 پا را فراتر نهاده و واحدهای هوش مصنوعی خود را نیز با قدرت بیشتری در دل تراشه جای دهد.
انتشار محتوا: اخبار رسمی
